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露點(diǎn)變送器DMT152,維薩拉DMT152,DMT152價(jià)格

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

露點(diǎn)變送器DMT152,維薩拉DMT152,DMT152價(jià)格測(cè)量露點(diǎn)低至-80℃(-112℉),校準(zhǔn)間隔長(zhǎng),降低維護(hù)成本,響應(yīng)時(shí)間快,抗冷凝,NIST溯源,可與維薩拉MI70表頭指示器兼容,可選回路供電顯示單元Nokeval 301。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2015-08-27
廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商
訪(fǎng)問(wèn)量:2509
詳細(xì)介紹
品牌Vaisala/芬蘭維薩拉

露點(diǎn)變送器DMT152,維薩拉DMT152,DMT152價(jià)格

現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè):如果測(cè)量準(zhǔn)確度要求較高,可選用冷鏡法儀器(同上);如果要求測(cè)量速度快或氣體污染較重,選用阻容法儀器,如芬蘭維薩拉公司DMT152便攜式露點(diǎn)儀。

概述    

緊湊而準(zhǔn)確

維薩拉DRYCAP?技術(shù)配有聚合物傳感器

測(cè)量露點(diǎn)低至-80℃(-112℉)

校準(zhǔn)間隔長(zhǎng),降低維護(hù)成本

響應(yīng)時(shí)間快

抗冷凝

NIST溯源

可與維薩拉MI70表頭指示器兼容

可選回路供電顯示單元Nokeval 301

露點(diǎn)變送器DMT152,維薩拉DMT152,DMT152價(jià)格

技術(shù)參數(shù)

露點(diǎn)溫度測(cè)量

測(cè)量范圍

-80 ... -10 °C (-112 ... +14 °F) Td

精度

± 2 °C (3.6 °F) Td

傳感器

維薩拉DRYCAP? 180U

ppm 體積濃度測(cè)量

測(cè)量范圍(常規(guī)情況)

0 ... 500 ppm

在溫度為+20 °C(+68 °F),氣壓為1013 mbar條件下的測(cè)量精度

±(0.2 ppm + 20 % 讀數(shù))

工作環(huán)境參數(shù)

溫度

-40 ... +70 °C(-40 ... +158 °F)

相對(duì)濕度

0 ... 100 %RH( +20 °C / +68 °F)

氣壓

0 ... 50 bar(725 psia)

被測(cè)氣體

非腐蝕性氣體

采樣氣流速度

對(duì)測(cè)量精度無(wú)影響

輸入與輸出

雙路模擬輸出(可擴(kuò)展升級(jí))

4 ... 20 mA、0 … 20 mA(3線(xiàn)制)、

數(shù)字輸出

0 ...5 V、

開(kāi)/關(guān)量輸出方式可用(替換

0 … 10 V

第二路模擬輸出)

RS485(2線(xiàn)制)

工作電壓

 RS485接口輸出電壓

11 … 28 VDC

電壓輸出

15 ... 28 VDC

電流輸出

21 ... 28 VDC

結(jié)構(gòu)參數(shù)

外殼材質(zhì)(浸潤(rùn)部件)

AISI316L

外殼防護(hù)等級(jí)

IP65(NEMA 4)

不銹鋼篩網(wǎng)過(guò)濾器

AISI303、過(guò)濾等級(jí)、18 μm

機(jī)械聯(lián)接方式

聯(lián)接方式 1

ISO G1/2"

聯(lián)接方式 2

NPT1/2"

聯(lián)接方式 3

UNF 3/4" -16

重量(采用ISO G1/2"聯(lián)接方式)

190克(6.70盎司)   窗體底端

露點(diǎn)變送器DMT152,維薩拉DMT152,DMT152價(jià)格

     在露點(diǎn)測(cè)量中,鏡面污染是一個(gè)突出的問(wèn)題,其影響主要表現(xiàn)在兩個(gè)方面;一是拉烏爾效應(yīng),二是改變鏡面本底放射水平。拉烏爾效應(yīng)是由水溶性物質(zhì)造成的。如果被測(cè)氣體中攜帶這種物質(zhì)(一般是可溶性鹽類(lèi))則鏡面提前結(jié)露,使測(cè)量結(jié)果產(chǎn)生正偏差。若污染物是不溶于水的微粒,如灰塵等,則會(huì)增加本底的散射水平,從而使光電露點(diǎn)儀發(fā)生零點(diǎn)漂移。此外,一些沸點(diǎn)比水低的容易冷凝的物質(zhì)(例如有機(jī)物)的蒸氣,不言而喻將對(duì)露點(diǎn)的測(cè)量產(chǎn)生干擾。因此,無(wú)論任何一種類(lèi)型的露點(diǎn)儀都應(yīng)防止污染鏡面。一般說(shuō)來(lái),工業(yè)流程氣體分析污染的影響是比較嚴(yán)重的。但即使是在純氣的測(cè)量中鏡面的污染亦會(huì)隨時(shí)間增加而積累。

上海鑫嵩實(shí)業(yè)有限公司  梁  
 


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